Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment. Annie Baudrant
- Тип: Текст PDF
- Автор:
- Издательство: John Wiley & Sons Limited(2018)
- ISBN: 9781118601112, 978-5-04-477747-7
- Страниц: 357
- Язык: Английский
20277.91 руб.
Отложить
- Жанры: Электроника, Техническая литература
- Описание
- Фрагмент
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.














