Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа. Владимир Астахов и др.
- Тип: Текст PDF
- Авторы:
- Издательство: МИСиС(2018)
- Год написания: 2007
- Страниц: 2
- Язык: Русский
132 руб.
Отложить
- Жанры: Практикумы, Материаловедение
- Описание
- Фрагмент
В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n+–p–p+(p+–n–n+)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика расчета в программе Math Cad 2001.