Материалы и элементы электронной техники. Расчет режимов термического окисления и диффузии при формировании легированных слоев. Владимир Астахов и др.
- Тип: Текст PDF
- Авторы:
- Издательство: МИСиС(2018)
- Год написания: 2007
- Страниц: 2
- Язык: Русский
120 руб.
Отложить
- Жанры: Практикумы, Материаловедение
- Описание
- Фрагмент
В практикуме рассматриваются принципы расчета режимов термического окисления, обеспечивающего заданную толщину маскирующей оксидной пленки, и режимов диффузии при формировании легированных слоев с заданными параметрами для кремниевых приборных структур. Излагается методика расчетов в программе Math Cad 2001.
